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Photomask Japan 2026への参加概要
ニューフレアテクノロジーは、パシフィコ横浜アネックスホールにて開催された「Photomask Japan 2026」に出展しました。本学会は、ホトマスクジャパンとSPIE（国際光工学会）が毎年共同で開催している国際的なシンポジウムです。
会場ではフォトマスク技術や、半導体製造に欠かせない次世代リソグラフィー技術に関する幅広い議論や報告が行われています。同社は本学会において、専門的な技術知見の共有と研究成果の発表を行いました。
Ms.ガジェットフォトマスク技術の専門家が集まる国際的な学会への参加ということで、技術力の高さがうかがえますね。
技術講演および研究発表の主な内容
同社は、特別プレイベントとして企画された「チュートリアル」の描画セクションにて講演を担当しました。また、マルチ電子ビームマスク描画装置「MBM-4000」に関連する最新の成果について、口頭発表とポスター発表をあわせて2件実施しています。
| 発表形式 | 発表テーマ |
|---|---|
| Tutorial | A History of E-Beam Mask Writers and Their Role in Semiconductor Manufacturing |
| Oral | Multi-beam Mask Writer MBM-4000: Enhancements and Latest Performance |
| Poster | Resist Heating Effect Correction in Multi-beam Mask Writer MBM-4000 |
発表では、電子ビーム描画装置の歴史的背景から最新装置の性能向上、さらに描画時のレジスト（感光性樹脂）加熱効果の補正技術にいたるまで、多角的な技術報告が行われています。
Ms.ガジェット描画装置の歴史から最新の補正技術まで、広範なテーマで発表が行われたようです。技術開発の進捗が伝わってきます。
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