ニューフレアテクノロジー(NFT)は、2026年4月9日・10日にパシフィコ横浜アネックスホールで開催される「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」に出展することを発表しました。
目次
展示会の開催概要
本展示会は、フォトマスク（半導体製造用のマスク）および次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に併設開催されるものです。開催期間は4月9日(木)10:00～17:00、10日(金)10:00～16:00で、会場はパシフィコ横浜アネックスホールのブースNo.31です。
Ms.ガジェットフォトマスク技術の国際展示会への出展は、半導体業界の関係者が一堂に会する重要な場となりますね。
出展内容の詳細
NFTは、以下の製品とロードマップを出展します。
- マルチ電子ビームマスク描画装置「MBM-4000」：A14ノードの半導体製造用マスク量産に対応した装置です。
- マスク検査装置「NPI-8000シリーズ」：10/7nm～成熟ノードの半導体製造用マスクを透過反射同時検査により60分以下の高速で検査を実現します（NPI-8000, 8000ML, 8000Wの3モデル）。
- 各製品のロードマップ：今後の開発予定を示す資料です。
Ms.ガジェットA14ノード対応の描画装置や60分以下の高速検査など、実際の製造現場で役立つ性能がアピールされています。
技術シナジーと今後の展望
NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術と、マスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っています。今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していくとしています。
Ms.ガジェット電子技術と光学技術の融合により、マスク製造プロセスの効率化が進むことが期待されます。
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