santec LIS、光ファイバ検査向けフォトニクスアナライザ「SPA-200」を発表

santec LIS株式会社は、OFDR（光周波数領域反射計）技術を用いた波長掃引型フォトニクスアナライザ「SPA-200」を開発し、2026年4月の受注開始を予定していることを発表しました。本製品は、光ファイバケーブルアセンブリの検査やフォトニクスデバイスの評価に高精度な測定を提供します。

製品概要

SPA‑200は、OFDR技術を採用した分析装置で、光ファイバ内の反射点や障害点の位置検出、微小損失測定、導波路伝搬損失測定を可能にします。シリコンフォトニクスデバイスや小型フォトニクスデバイスの研究開発から量産工程まで、幅広い用途に対応しています。

主要スペック

項目	SPA‑200	従来機 SPA‑110
測定距離	最大250m	最大約30m
位置分解能	5µm	5µm
検出器	偏波無依存型	（非開示）

主な特長

SPA‑200の主な特長は以下の通りです。

• 測定距離250mを実現：従来機（SPA‑110）の8倍以上となる最大250mの測定距離により、長尺光ファイバケーブルアセンブリの検査に対応します。
• 高い位置分解能5µm：測定距離を大幅に拡張しながらも、5µmの高い位置分解能を維持。微細な反射点や損失要因の正確な評価が可能です。
• 偏波無依存型検出器による高精度損失測定：新開発の偏波無依存型検出器により、非偏波保持デバイスにおける損失測定のばらつきを低減し、測定精度を向上させました。
• シリコンフォトニクスに最適：微小損失測定や導波路伝搬損失測定に対応し、研究開発から生産工程まで幅広く活用可能です。

発売・展示予定

受注開始は2026年4月の予定です。また、本製品は2026年3月17日より米国ロサンゼルスで開催される「OFC 2026」にて展示され、当社ブース番号は#1029です。

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