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ニューフレアテクノロジー、SPIE Advanced Lithography + Patterningに参加
ニューフレアテクノロジー(NFT)は、2026年2月22日から26日まで米国カリフォルニア州サンノゼ市で開催された「SPIE Advanced Lithography + Patterning」に参加しました。
Ms.ガジェット半導体露光関連技術の国際会議への参加というのは、技術力の向上を目指す姿勢の表れですね。
本学会について
本学会は、光学やフォトニクスの分野における国際学会であるSPIE(The International Society for Optical Engineering, 国際光工学会)が毎年開催するものです。今回もウェハ露光やフォトマスク製作に関して幅広い報告が行われました。
発表内容
NFTは、マルチ電子ビームマスク描画装置に関する最新の開発成果について、3件の発表（うち1件は共著者としての発表）を行っています。
発表論文の詳細
発表論文は以下の通りです。
| 論文タイトル |
|---|
| Paper 13982-17: MBM-4000: Advanced features and applications (Invited Paper) |
| Presenter/Author: Yuji Fujiwara |
| Authors: Hiroshi Matsumoto, Jumpei Yasuda, Kenichi Yasui, Hayato Kimura, Yoshinori Kojima |
| Paper 13981-114: Analysis of factors affecting pattern fidelity evaluation using sine wave patterns in electron multi-beam mask writing |
| Presenter/Author: Makoto Kawano |
| Authors: Shinichi Sasaki, Hikari Ogawa, Aki Mukai, Tianyue Zhou, Takuma Abe, Yoshiyuki Negishi, Hideki Matsui, Yoshinori Kojima |
Ms.ガジェット発表論文の内容から、ニューフレアテクノロジーが最新技術の開発に力を入れていることが伺えます。
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